二手 APPLIED MATERIALS Centura 5200 #174265 待售

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图为 已使用的 APPLIED MATERIALS Centura 5200 待售
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已售出
反应器
製造商
APPLIED MATERIALS
模型
Centura 5200
ID: 174265
晶圆大小: 8"
优质的: 1997
WxP system, 8" Includes: Centura Main Frame System Controller/AC Power Box Process: Etch Back (W.EB) System Power Rating: 208 VAC 3-Phase Loading Configuration: Wide Body Load Lock Chamber Robot Type: HP Robot wafer handling assembly CRT Monitor and Monitor Base with light Pen x2 RF Generator Rack x1 (ENI OEM-12B3-03) (4) Nabtesco Dry Pump (EV4002) (2) Toyota Dry Pump (EC100L) (2) Dikin Chiller (UBRP2AMPE ) SMC Chiller (INR-498-012D-X012) Showa Denko Scrubber Chamber Configuration: Load Lock Chamber A Load Lock Chamber B Transfer Chamber Chm Position A: Centura WxP Chamber Chm Position B: Centura WxP Chamber Chm Position C: Centura WxP Chamber Chm Position D: Centura WxP Chamber Chm Position E: Empty Chm Position F: Orienter Chamber De-installed and crated 1997 vintage.
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APPLIED MATERIALS Centura 5200是一款先进的晶体管级等离子体蚀刻设备,对用户具有广泛的优势。这种装置是制造、包装和测试超现代半导体芯片和元件的专用工具。它是可靠、高效且经济实惠的蚀刻解决方桉。Centura 5200具有强大的单个晶片感应耦合等离子体源。该源能够在高温下产生极大体积的离子化水合氢离子，从而在低至5纳秒的时间内实现高蚀刻速率。这个过程使用高频功率和一种反应材料，通常是气体，来氧化硅的表面，以产生微小的沟槽和隧道。APPLIED MATERIALS Centura 5200遵循业界标准的Multi-View Design （MVD）,为用户提供无与伦比的精度和准确性。它还采用了提供更好的基板视图的并行传感器技术，允许用户快速检测任何可能限制工艺产量的弱点。Centura 5200是一种全自动蚀刻系统。该装置的设计和建造是为了尽量减少产品污染的风险而量身定制的。先进的硅胶网页清洁机和自动化的终端效应器加载和卸载等功能确保用户只需要最少的手动干预即可确保产品质量高、无污染。APPLIED MATERIALS Centura 5200的设计具有卓越的可靠性。其高精度PFI （Portable Milm Implant）工具确保了蒸发材料的均匀分布,有助于提高工艺控制和产量优化。此外,利用集成的离子门,用户可以快速轻松地提高流程灵活性。Centura 5200是功能齐全的蚀刻资产,为用户带来无与伦比的好处。此设备可轻松集成到现有生产线中,并提供高效且经济实惠的蚀刻解决方桉。其可靠、准确的设计、先进的自动化和卓越的工艺控制使其成为当今市场上最好的蚀刻解决方桉之一。
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