二手 APPLIED MATERIALS Centura HDP CVD #100063 待售

应用材料Centura HDP CVD是一种先进的化学气相沉积（CVD）设备，设计用于先进的微电子和纳米技术加工应用。与旧的CVD系统相比,该系统的设计旨在提供更好的性能、更大的灵活性和更好的一致性。该机组配有石英管和两个加热的磁化器，下部和上部，以及气体输送机。石英管是一个单端压力室，包括石英管、其顶部和底部法兰和密封件、流明进给通路和水平调节器。红外灯加热感光器，使要沉积的基板快速加热和冷却；它还会在基板表面产生均匀的热场。Centura HDP CVD上的气体输送工具由气体流量计、序列阀、毯式气体供应和旁通阀组成。气体流量计能够精确测量来自各个气瓶的气体供应流量。顺序阀有助于控制气体从气源流向资产的流量。毯式气体供应允许在基板上输送累积惰性气体毯子。旁通阀用于在发生故障时排空模型的腔室。该设备还配备了真空泵和安全阀、压力表和热电偶传感器，分别监测和测量室内的真空和温度水平。APPLIED MATERIALS Centura HDP CVD系统还有一个强大的控制器软件，允许用户对各种工艺参数进行编程，以产生不同的膜质量和均匀性水平。该软件还可用于存储、分析和重新创建流程配方和设置。该装置具有快速沉积速率和均匀性的高通量，同时控制沉积膜的质量。可用于沉积金属和其他金属基膜如铝、铜和钛，以及多种介电膜和氧化物。该机器还能够处理各种过程，如ALD（原子层沉积）和保形沉积。Centura HDP CVD工具提供了可靠和优化的CVD体验,可供制造行业使用。它能够产生具有改进的均匀性和纯度的高质量沉积，这对于最新半导体和纳米技术产品的成功至关重要。