二手 APPLIED MATERIALS Centura MxP #130910 待售

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ID: 130910
PECVD SiO2 / SiON / SiO2 system 3 chambers: (2) Poly, (1) Oxide Power: 208VAC, 3ø, 50/60Hz ENI-OEM-12BX3 Eabara A30W X2 Ebara AA70W Ebara A70W X2 Gases : Ch A-He, N2,SiH4, CF4, N2O Ch B-He, N2,SiH4, CF4, NF3, NH3, N2O Ch C-He, N2,SiH4, CF4, N2O Process Kits Clamp chucks EPD Turbos Dry pumps (Edwards IL/IH600) (Qty 3) RF Gen ENI OEM-12B HE Neslab chiller Rear monitor All cables Software: English De-installed Q1 2010 2000 vintage.
APPLIED MATERIALS Centura MxP反应堆是一种高性能、大型的设备,旨在使大众市场产品和晶圆结构的生产具有成本效益。该系统配备了多种技术,以确保与最苛刻的制造工艺的最大效率和兼容性。反应堆集成了多种元素,包括一个大面积腔室、一个热均匀沉积单元和一个自动等离子体源,用于敏感基板的精确和高效处理。机器提供了高度的工艺灵活性,使用户能够同时处理正负极性装置以及大小基板。反应堆还提供对温度和压力的高精度控制,允许一次操作就能精确沉积多层。该工具针对先进的高功率器件生产和晶圆级封装的加工进行了优化。该资产也适用于一般热蒸发和光阻涂层工艺。配备优化腔室设计的Centura MxP反应堆,通量率高,工艺控制和均匀性提高,热反应性最小化,提高器件产量。集成等离子体源被设计为允许多层沉积在同一基质上。该模型还具有大面积腔室,为高效加工提供了卓越的热均匀性和均匀性。APPLIED MATERIALS Centura MxP反应堆提供高效可靠的过程控制,具有多室控制和监控技术等一系列先进功能,包括气体感测和大气控制。内置以太网/IP协议可确保传输数据的能力以及提高处理速度。该设备还具有先进的安全功能,以保护工人免受危险过程的伤害。总体而言,Centura MxP反应堆是一种先进的高性能系统,旨在高效、经济高效地制造大众市场产品和晶圆结构。集成的技术和先进的设计确保了最大的效率和质量,使其成为大规模生产半导体器件的理想选择。
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