二手 APPLIED MATERIALS Endura 5500 #180431 待售
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ID: 180431
晶圆大小: 8"
优质的: 1999
PVD system, 8"
Specifications:
Main frame: through the wall configuration
Wafer handing: SNNF
Front panel type: Painted
Software version: 8.91
Single board computer in controller: Yes
Ion gauges: 451 nude
Robots:
Buffer robot: HP+
Blade material: Original metal
Load lock: No wide body
Index handler type: Enhanced tilt out
Loadlock vents: Variable soft vent + fast vent
Transfer robot: VHP
Blade material: CVD compatible
Narrow body: Yes (Tilt-out)
Chamber specifications:
Chamber 2:
Metal / Applic.: IMP Tin
Body Style: Vectra Imp
Source type: Vectra Imp
Power Supply: 12kW
Power Supply: 12kW
Heater: B101
Basic chamber setup:
A. Pass through
B. Cool down
C. PC 2
D. PC 2
E. Orientor with Std Degas
F. Orientor with Std Degas
Gasline fittings: AMAT specifications
For preclean / CVD:
Chamber C:
Vacuum pump type: Ebara
RF match: 180431
Cable length: 75"
RF match type: 8"
Power supply: RFPP 10A
Chamber D:
Vacuum pump type: Ebara
RF match: 180431
Cable length: 75"
RF match type: 8"
Power supply: RFPP 10A
MFC type:
Process MCF-1:
2: AR (size 100)
3: Hecar; BTpur;EDpur ;Phat (size 500;2000;3000;1)
4: AR (size 100)
C: AR (size 20)
D: AR (size 20)
Process MFC-2:
2: N2 (size 100)
3. 500;2000;3000;1 (size 1000;1000;1000)
C. AR (size 300)
D. AR (size 300)
Paste chamber: Yes (chamber 5)
System roughing pump type: Ebara
Chamber cryo pump type: OB8F
Umbilicals:
- mainframe to controller: Yes
- mainframe to generator racks: Yes
- mainframe to cryo compressor: Yes
- main AC to system controller/sys. AC: Yes
- syst cont/sys AC to primary Gen rack: Yes
- main AC to primary generator rack: Yes
- main AC to pump frame: Yes
- main AC to Neslab heat exchanger: Yes
- monitor cable: Yes
- monitor2 cable: Yes
- monitor3 cable: Yes
CE Mark: Yes
EMO Option: Yes
EMO button guard rings: Yes
Water leak detector: Yes
Buffer and transfer lid hoist: NO
Support Equipment:
Heat exchangers:
Number: 1
Type: AMAT
Cryo compressors: Yes
Number: 2
Type: 9600
Cryo He lines Yes
Neslab present: Yes
Resistivity meter: NO
Manuals not included
Installed
1999 vintage.
APPLIED MATERIALS Endura 5500是一种高端、多室反应器，致力于提高硅基器件的性能和可靠性。Endura 5500的设计目的是以尽可能最低的成本提供高产量,同时保持最高的质量和精度。APPLIED MATERIALS Endura 5500的先进设计允许在单个工具中进行各种基于硅的工艺，如沉积、蚀刻、退火、沉积、蚀刻和检查。Endura 5500因此能够提供业界产量最高的最高吞吐量。APPLIED MATERIALS Endura 5500采用了创新的双泵设备，允许在生产的各个阶段灵活、快速地调整工艺参数。该系统采用高效的泵速，以减少污染，同时也提供必要的动力来完成许多不同的过程。此外，该装置还利用晶片上的红外加热，使用户能够完全控制工艺温度。Endura 5500是一种可靠而坚固的反应堆，非常适合使用最先进的半导体工艺制造半导体晶片。机器配备了高度自动化，可以在没有人工干预的情况下实现复杂的程序。此外,APPLIED MATERIALS Endura 5500的设计与现代控制系统兼容,允许将不同的软件平台集成到工具中。Endura 5500能够进行各种各样的工艺，包括化学气相沉积（CVD），以便在受控环境中沉积材料，加工温度可达1100 °C，压力范围可达10 Torr。这允许单面和双面过程，如金属化和光刻，以快速和高度的控制完成。APPLICED MATERIALS Endura 5500配备独特的晶体种植器模块（CGM），能够晶体生长和掺杂服务，这两者都是制造某些类型半导体器件所必需的。CGM提供对温度和压力的精确控制，允许得到受控和精确掺杂的材料。Endura 5500反应堆被设计为一种自动化、经济高效和技术先进的资产。它具有全面的特性,是制造要求最高精度和质量的半导体器件的理想选择。这个反应堆是一个可靠和值得信赖的工具，适用于许多不同的过程，并将在未来多年提供可靠的性能。
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