二手 APPLIED MATERIALS Endura 5500 #182849 待售

APPLIED MATERIALS Endura 5500是一种先进的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）反应器，用于将薄膜沉积到半导体晶圆表面。Endura 5500反应堆是一种工艺设备，设计用于在精确、高效和可重复的沉积过程中提供优质薄膜。它利用了几种方法来优化沉积过程，包括改变一系列不同的等离子体相关参数。应用材料Endura 5500反应堆使用先进技术产生均匀的等离子体放电，有助于制造可重复和可靠的薄膜。它采用了金属对金属真空密封，不需要O形圈和其他金属密封，允许非常精确和可重复的压力控制。此外，该反应堆还具有导热冷却气体分配系统，具有低色散压力，确保向晶片均匀输送气体。Endura 5500反应堆可以配置为容纳多种不同的过程，包括磁控管溅射和反应性溅射，以及其他等离子体增强化学气相沉积、PECVD和蚀刻过程。反应堆还配备了一个高性能的过程计算机系统，使过程的精度。反应堆可以进行远程监测，并提供实时监测和对过程结果的反馈。APPLIED MATERIALS Endura 5500反应堆还具有先进的硬件和软件进步，大大提高了工艺吞吐量和产量。它能够提供高达60纳米/秒的薄膜沉积速率，并具有若干特点，旨在提高工艺的可重复性和可重复性，包括恒定气体分配系统、局部和全局射频匹配、双腔同步操作、动态射频和独立偏置控制。最后，Endura 5500反应堆被证明成功地在晶片表面生产出高质量、超光滑的薄膜。这可以提供多种好处，包括提高对眼泪和划痕的抵抗力，改善介电性能，增加对化学物质和磨损的抵抗力。此外，APPLICED MATERIALS Endura 5500反应堆可用于方便地将薄膜沉积到各种电子设备，包括太阳能电池和存储设备的大型晶片上。