二手 APPLIED MATERIALS Endura 5500 #194192 待售

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ID: 194192
晶圆大小: 6"
优质的: 2004
6" PVD System Chambers: (2) standard (1) wide body Chamber 1 STD-Ta(CLAMP), DURA Magnet Chamber 2 Wide-TaSi(CLAMP0, DURA Magnet Chamber 3 STD-AlCu(CLAMP), A Magnet Chamber A: PCⅠ(Pedestal) Installed 2004 vintage.
APPLIED MATERIALS Endura 5500是为先进半导体工艺技术而设计的高端、最先进的反应堆。该设备由APPLIED MATERIALS开发,为使用感应耦合等离子体或远程等离子体进行单晶片处理提供了一个平台,用于各种半导体工艺应用,包括金属铝合金、氧化硅/氮化物蚀刻、视频和介电沉积以及化学机械平面化。恩杜拉5500反应堆的设计具有许多典型的特点,使其成为当今市场上最先进的系统之一。它配备了模块化架构和高度灵活的工艺室,允许对单个晶片进行高通量处理。此外,它还包含一个6轴机器人系统,该系统安装在一个自动盒式磁带到盒式磁带单元中,可实现精确的晶圆传输和配方执行。该装置还能够通过全面的气体和电力输送机制以及反馈控制提供广泛的工艺条件。此外,APPLIED MATERIALS Endura 5500反应堆还配备了几个特点,保证了高质量、可靠的工艺成果。该机采用原位全反射光学视场设计,利用高功率显微镜检测晶片在预处理和后处理操作过程中的缺陷。它还包括强大的晶圆处理机构,允许精确控制加热、冷却、压力等参数,以最大限度地提高工艺精度。为了最大限度的效率和易操作,恩杜拉5500反应堆包括一个用户友好的图形用户界面(GUI)。这种直观的用户界面简化了与工具的交互,使操作员能够轻松监控、控制和优化流程。此外,该资产的设计旨在方便工具维修,并具有快速释放组件和访问端口,以便于工具维护。总体而言,应用材料Endura 5500反应堆是任何半导体实验室必不可少的模型。它集成了一系列创新功能,让用户获得卓越的质量、可靠性和吞吐量。该设备专为工艺优化而设计,确保精确的工艺控制,使工程师能够可靠地为任何半导体应用实现所需的工艺结果。
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