二手 APPLIED MATERIALS P 5000 #163402 待售
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ID: 163402
晶圆大小: 8"
PECVD system, 8"
Configuration: (4) CVD chambers
Process gases: Silane, Ammonia, Nitrous Oxide, Nitrogen Trifluoride
Precision 5000 Mark II Mainframe
Precision 5000 Software Version 5.03 (Year 2000 Compliant)
SECS Communication Port
Laminar flow mini-environment behind input/output window
Mark II ZA (zero adjust) actuators and gates for process chambers
Process chamber configured for ceramic chuck operation
15 slot storage elevator for faster run rates
eDOC remote system for combustion of un-reacted silane
Nitride thin film configured (no hotbox)
Heat exchanger
Remote frame with remote AC power box
(1) High frequency RF generator per chamber on remote frame
(4) BOC-Edwards iQDP40/iQMB250 pumps/blowers for dep chambers
BOC-Edwards iQDP80 pump for loadlock
Ergonomic Cassette Load/Unload
Excursion Prevention (EP) software ready
Currently crated.
APPLIED MATERIALS P 5000是一种专门的化学气相沉积（CVD）反应器，用于商业生产电子和半导体材料。具体来说，APPLIED MATERIALS P5000用于制造多晶硅、多晶硅TFT（薄膜晶体管）、多晶硅栅极和poly-SiON（多晶硅氧化氮）材料。这种多用途系统的工作原理是在真空室中分解化学前体，在基板上形成薄膜或材料层。这种沉积过程被称为化学气相沉积，需要高温和精确的压力控制。P-5000反应堆提供了可靠和高效生产所必需的高水平控制和精确度。其先进的设计包括一个单独的配电室，在其中装载前体原料、反应物和惰性气体，以及发生沉积的反应室。P 5000反应堆还具有温度、压力、氧气流率等广泛的工艺参数，都可以调节，以保证膜沉积的一致性和均匀性。在应用材料P-5000反应堆的核心是它的高功率加热系统，它允许在400°C和960°C的过程温度范围内。这有助于降低沉积过程的复杂性，并在基板上保持一层一致的薄膜。P5000反应器还具有超精密晶片反应室和可选的风扇辅助冷却，以进一步提高沉积工艺的效率和产品质量。APPLIED MATERIALS P 5000反应堆系统通常配备先进的自动化和控制系统，具有保护人员和设备的安全功能，并配有离线监控系统以确保符合产品规格。此外，反应堆还具有防腐蚀部件和用于降低维护要求的防护涂层。总体而言，APPLIED MATERIALS P5000反应堆为用于制造电子和半导体材料的CVD工艺提供了可靠、高效和经济高效的解决方桉。它具有先进的设计、精确的性能和智能控制系统,是商业化生产的绝佳选择。
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