二手 APPLIED MATERIALS P 5000 #163405 待售
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ID: 163405
晶圆大小: 8"
PECVD system, 8"
Configuration: (4) CVD chambers
Process gases: Silane, Ammonia, Nitrous Oxide, Nitrogen Trifluoride
Precision 5000 Mark II Mainframe
Precision 5000 Software Version 5.03 (Year 2000 Compliant)
SECS Communication Port
Laminar flow mini-environment behind input/output window
Mark II ZA (zero adjust) actuators and gates for process chambers
Process chamber configured for ceramic chuck operation
15 slot storage elevator for faster run rates
eDOC remote system for combustion of un-reacted silane
Nitride thin film configured (no hotbox)
Heat exchanger
Remote frame with remote AC power box
(1) High frequency RF generator per chamber on remote frame
(4) BOC-Edwards iQDP40/iQMB250 pumps/blowers for dep chambers
BOC-Edwards iQDP80 pump for loadlock
Ergonomic Cassette Load/Unload
Excursion Prevention (EP) software ready
Currently crated.
应用材料P 5000反应器是一种先进的半导体制造设备，用于在晶圆上蚀刻和形成图样。这台机器拥有卓越的光刻能力，使蚀刻过程非常精确和细致。应用材料P5000反应堆具有高达16英寸的场大小，允许更大规模的过程。用于创建图样的喷嘴很小，可以很容易地更改，从而能够应用广泛的蚀刻图样。P-5000反应堆采用优化的蚀刻工艺，化学用量最少，可提高效率和节约成本。该系统利用其内置监控和计算机系统，实现尽可能高的蚀刻速率。APPLICED MATERIALS P-5000反应器还具有获得专利的G-Laser,这是一种烧蚀激光器,能够在传统蚀刻系统的一小部分时间内完成蚀刻过程。这种激光器还可以提供比其他系统更多的细节和精度。除了其优越的蚀刻能力外，P5000反应堆还包括一个高精度的检验单元。这台机器包括一台高分辨率显微镜，以及在整个蚀刻过程中测量晶片化学成分的传感器。这样可以确保所有晶片在从工具中释放之前都符合所需的标准。P 5000反应堆设计用于在非常清洁的环境中运行，其密封室防止任何国际尘埃颗粒。这个腔室充满了超纯氮，有助于减少晶片的氧化。该资产还具有高级过滤模型，用于返回蚀刻过程中产生的任何微粒。应用材料P 5000是任何半导体生产线的理想选择.其先进的蚀刻和检验能力，加上洁净室环境和能效，使这种设备成为生产质量最高的晶片的绝佳选择。
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