二手 APPLIED MICROSTRUCTURES MVD 100 #293647151 待售

ID: 293647151
优质的: 2014
Molecular Vapor Deposition (MVD) system Vacuum: Pumping speed: ≥100 m³/h Base pressure: ≤10 mTorr Storage: Humidity: 25 to 85% (Non - condensing) Temperature: 5 to 70°C (41 to 158°F) Exhust flow: System exhaust: 200 CFM Gas panel louvers: 200 CFM Power supply: Voltage: 208 VAC, ±10%, 3Φ, 5 Wire-Y (Ground + netural) Current: 60 Amps Full load: 58 Amps (Maximum) 46 Amps (Nominal) CB1 Interrupter current: 10 K at 240 V K1 Impuls withstand voltage: 8 kV 2014 vintage.
应用显微结构MVD 100是一种紧凑的超高真空(UHV)微波等离子体薄膜反应器,旨在支持多种工业薄膜制造工艺。其任务是为各种成分和厚度的薄膜沉积提供一个成本效益高、可靠的平台。该反应堆装有在2.45或5.8 GHz频段运行的双频设备,使操作员能够根据所需的薄膜材料在沉积之间切换。它的不锈钢结构加上坚固的铝制腔室,使它成为一个坚固的系统,能够承受长期的生产级维护周期。MVD 100利用创新的高能干式真空装置捕获极小的残留颗粒,并在沉积开始前确保无膜真空环境。本机采用直驱涡轮泵、化学泵、无油压缩空气泵的组合,达到10-8 Torr的底压,可选择达到6 x 10-9 Torr。应用微结构MVD 100采用的创新等离子体输送工具旨在确保最大等离子体均匀性和对基材的最小污染。它能够创造一个具有一系列密度和等离子体种类的等离子体环境。资产可以根据反应式或非反应式流程的特定要求进行调整。MVD 100的设计进一步确保了预防性维护的经济高效解决方桉。它的模块化设计允许快速、方便地访问其所有组件,包括电源、等离子体控制、封装和运输以及其他外部连接。此外,它内置的安全特性包括一个安全互锁模型,当检测到意外压力波动时,该模型会立即关闭等离子体。应用显微结构MVD 100是制造薄膜的必要工具,例如用于微电子、光学涂层和平板显示技术的薄膜。它的性能和成本效益使其成为许多工业薄膜制造工艺的可行候选者。
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