二手 ASM Epitaxy #166041 待售

ASM外延反应器提供高效、安全和精确的半导体材料外延沉积。外延沉积（Epitaxial deposition）是将半导体材料的紫外线层沉积到基板上，以扩大和提升半导体器件性能的过程。外延反应堆是一种使用物理气相沉积技术的高效反应堆系统，通过蒸发、溅射、和或离子轰击将源材料传递到基板进行沉积。反应堆由几个组分组成，包括一个原料室、一个真空室和一个基板级。原料室由一个真空室组成，其中原料被加热和蒸发。基板阶段通常被冷却以促进基板的均匀和快速生长。基板表面再暴露于汽化的源材料，材料在基板材料表面聚结形成外延层。该反应器的厚度、覆盖面和外延层质量均匀，为外延沉积提供了一种有效的方法。在基板上得到的层通常具有均匀的厚度，以及横跨基板的均匀覆盖。此外，由于生长温度较低，晶体完美和/或结构完美的蒸发材料得以维持。ASM Epitaxy还提供了生长速率和沉积速率的均匀性，有助于保持蒸发材料的晶体完美，以及层的均匀覆盖和厚度。均匀的覆盖范围和层厚可实现有效的产率,因为存在缺陷的可能性较小。反应堆由于易于使用，效率很高。源材料可以很容易地变出，用户可以根据需要控制沉积速率。此外，反应堆还具有易于理解的用户界面，使新用户能够简单地了解沉积过程的操作参数。总之，外延为外延沉积提供了一种安全、精确的方法。它简化了沉积过程，同时为用户提供了蒸发材料的均匀覆盖、层厚、晶体完美。因此，反应堆的效率对半导体器件设计者和制造商是有利的，因为它的可靠和一致的结果。