二手 CAMBRIDGE NANOTECH Fiji F200 #293651884 待售
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ID: 293651884
优质的: 2010
Atomic Layer Deposition (ALD) system
Substrate, 8"
ADIXEN ATH-400M Pump
Aluminum oxide
Manual load lock
Chamber
(6) Heater precursor lines
Gases: N2, Ar, O2, H2, NH3
Plasma enhanced ALD
Thermal ALD with temperature: Up to 300°C
No heater jacket
No APC
Optimize:
ALD Reactor
Heater
Trap geometry
2010 vintage.
CAMBRIDGE NANOTECH斐济F200是一个强大的，数字化的，工业级的大气压等离子反应堆。是精密薄膜沉积、表面活化、表面处理、沉积后处理的理想选择。由于它有能力用各种表面化学和结构对任何基板的表面----金属、半导体、纳米颗粒和介电----进行化学修饰，它使得能够生产功能（溷合）结构和材料，并具有适合具体应用的特性。CAMBRIDGE NANOTECH FIJI F 200基于热阴极、直接谐振电感等离子体源原理，利用介电屏障放电。它由一个多区腔室组成，该腔室具有精确设计的温度控制电阻加热元件，以便在任何类型的基板上控制各种薄膜的沉积。该室设有一个开口，以容纳样品的装卸。斐济F200配备了直观和用户友好的多模式控制软件，可实现远程操作和参数选择以及为特定应用程序创建自定义控制配置文件。它与多种工艺气体相容，可与氙气、氮气、氧气、二氧化碳、氢气、霓虹灯或氨一起操作。等离子体的来源是高度稳定的，可以调整为气体流速的复杂组合。FIJI F 200专为高产量网络处理和微型和纳米加工工业的广泛应用而设计。它具有较高的吞吐量和快速的过程启动/停止功能,能够持续生产和有效的成本控制。高效，能耗低，工艺重复性强，等离子体控制精度高。总之，CAMBRIDGE NANOTECH斐济F200是一个创新的、功能强大的等离子体反应堆，它结合了最先进的数字控制和精确的等离子体工程，提供了无与伦比的表面处理解决方桉。它能够在任何类型的基材上精确沉积薄膜，可用于导电薄膜或电介质、表面活化处理、沉积后处理等多种应用。
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