二手 CAMBRIDGE NANOTECH Fiji F200 #9179531 待售

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ID: 9179531
优质的: 2010
Atomic layer deposition system Substrate, 8" Aluminum oxide Manual load lock Dual chamber (6) Heater precursor lines (5) Plasma gas lines Plasma enhanced ALD With (3) gases: O2, Ar, N2 Thermal ALD with temperature: Up to 300°C Turbo pump with APC Chemicals: TMA, Zr, Ti Optimize: ALD Reactor Heater Trap geometry 2010 vintage.
CAMBRIDGE NANOTECH斐济F200是一种化学气相沉积(CVD)反应器,用于研究和工业规模生产薄膜。它设计用于各种应用,包括:太阳能电池生产、光电、半导体、MEMS/NEMS和显示器。CAMBRIDGE NANOTECH FIJI F 200是一款下一代、高精度的CVD设备,可以将周期性薄膜沉积至0.5µm厚。它是为金属、半金属和金属氧化物的实验沉积而设计的。该系统有两个集成的过程模块:沉积和移动性。斐济F200设计可靠、人性化,颗粒生成率低,背压操作低,薄膜应力低,背面冷却均匀,提高了批模均匀性。FIJI F 200是单晶圆反应堆,有CL-V和PD-V两种型号配置。这两种型号都带有直观的图形用户界面和集成的视频显微镜。CL-V配置包括一个集成的起重臂,可方便地装卸样品/基板而不受污染。PD-V版本有一个内置的"自舞台",带有一个独立的基板支架,允许打开设备进行手动装卸。CAMBRIDGE NANOTECH斐济F200提供多种选项,包括自动化、OneView气体监测机、用于更大均匀性控制的环形热板以及背面冷却模块。为了满足各种工艺的需要,这座反应堆配备了各种各样的工艺源和载体气体。为了进行更精确的沉积控制,该工具包括一个充满活力的石英选择室,该室有助于将样品从反应堆废气中分离出来,提供一个清洁、反应友好的环境。CAMBRIDGE NANOTECH FIJI F 200是一种可靠、用户友好的CVD反应器,可用于各种具有精确沉积控制的薄膜应用。该反应器是薄膜产品研究和工业规模生产的一种经济高效的解决方桉。
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