二手 CANON / ANELVA COSMOS I-1201 #293597728 待售
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ID: 293597728
晶圆大小: 12"
优质的: 2002
PVD System, 12"
For solder bump
CANON ANELVA Cosmos 300 PVD System
(2) CANON ANELVA Unit-875CA Cryopump compressors
System rack
LCD Monitor rack
Controller rack
AC Power rack
Chiller
DC Rack
RF Rack
Cryo He hose
Process chambers:
Chamber-A (SLA-ICP)
Chamber-B, (3) Cooling and gate bulbs
Chamber-C
Chamber-D (Process: Cu)
Chamber-E (Process: Ti)
Chamber-F (Heat)
Dry pump racks:
EBARA AA10N Dry pump (upper stage)
EBARA AA10N Dry pump (lower stage)
Chambers:
Degas
SLA-ICP
Collimated CO
(2) STD-PVD
1022-41205C Channel relay box
1022-33862C Channel relay box
1022-39070C Channel relay box
(19) OMRON EE-SPX613 Liquid level sensors
ULVAC Qulee CGM-052 Gas analyzer
DENKI KOGYO STC-1S Matching control unit
DENKI KOGYO ST-1S Matching network
SMT1000J APC Smart-UPS 1000 LCD, 100 V
SUA1000J APC Smart-UPS 1000 VA USB, 100 V
ULVAC WPB-10-034 Pirani vacuum gauge
OMRON EE-SX674 Photo micro sensor
COPAL ELECTRONICS PG-35-102R-NVC Pressure gauge
Main breaker: 175/225 A
Interrupt current:10 A
Main UPS power supply
Power supply: 200 VAC, 50/60 Hz, 3-Phase, 3-wire (Ground)
2002 vintage.
CANON/ANELVA COSMOS I-1201是一种紧凑、高性能的溅射反应器，用于薄膜的沉积。它是一种直流磁控管式反应器，能够以高达0.2 nm/s的沉积速率生产薄膜，并且几乎能够溅射任何材料。反应堆配有用于固定底物的安装结构、用于排空腔室的排气系统、用于控制过程的射频发生器以及用于操纵离子电荷的离子源。反应堆还设有用于离子源的磁控管式加热灯丝、离子束加速管、电子枪和多级电子缸磁体。CANON COSMOS I-1201能够生产高质量、均匀的薄膜，几乎可以溅射任何材料。它利用高频交流电源在腔室中创造低压环境，使得金属和金属氧化膜能够溅射。适用于生产铜、铝、钛、锌等金属以及种类繁多的金属氧化膜。反应堆具有高达1000 W的可调功率水平，具有根据目标材料厚度调整沉积速率的能力。ANELVA COSMOS I-1201的整体结构是为最低维护和低运行成本而设计的。它采用模块化设计,便于拆卸和重新组装以进行维护。该室采用海面顶盖，便于清洗，基板可旋转调节，获得所需的沉积角度和面积。该机还配备了燃气和电气安全关闭开关以及各种工艺监控传感器，可用于保持最佳性能。COSMOS I-1201是一种强大的溅射反应器，可用于以合理的成本沉积质量优越的薄膜。它提供对工艺的高精度控制，能够生产厚度均匀、复制性优良的薄膜。CANON/ANELVA COSMOS I-1201以其方便的维护结构、可调节的功率水平和经验证的耐用性,是薄膜元件生产中的理想选择。
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