二手 CANON / ANELVA FC 7100 #9293805 待售

CANON/ANELVA FC 7100是一种高质量的反应性离子蚀刻器（RIE），通常用于物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）工艺。该反应器设计用于对蚀刻过程进行高度精确的控制，从而实现表面质量的最佳控制和均匀性。它由一个管状腔室组成，该腔室连接到一个旋转脉冲阀，使气体溷合物能够很好地转动，以便精确地应用蚀刻剂。腔室用氮气加压，可以加强对内部环境和条件的控制。真空压力由一个健壮的涡轮分子泵保持，这也提供了带电粒子的强烈加速度，提升了蚀刻速度并提供了平滑的蚀刻过程。此外，一个自产的低压化学蒸气组合器被整合到腔室中，在整个蚀刻过程中提供连续的反应性物质供应，从而能够精确和准确地控制蚀刻速率。蚀刻等离子体是由一台高密度的13.56 MHz射频发生器产生的，该发生器提供0.2至2 Torr之间的稳定等离子体，这取决于所使用的气体溷合物。射频发电机由大功率固态电源供电,可调节输出电平在0到1000 W之间。足够的功率输入可确保均匀蚀刻,从而提供均匀的蚀刻表面质量。现代微处理器控制的调压调频系统保证了光滑的蚀刻过程。先进的反应室设计允许各种蚀刻参数和气体溷合物，如O2、 、 、 、 、Ar。为了在整个样品上固定均匀蚀刻，腔室配有低压装置，无论样品表面积如何，都能确保相同的蚀刻速率。CANON FC 7100适用于多种材料，包括但不限于硅、金属、氮化物、氧化物、光致抗蚀剂和类似金刚石的碳。ANELVA FC7100是一种强大可靠的反应堆，具有可靠的性能，可以根据各种蚀刻要求量身定制，提供高质量的表面质量。凭借先进的射频发电技术、大功率固态电源等多种特点，ANELVA FC 7100确保了对蚀刻工艺的高效蚀刻和精确控制。它是一种经济高效的解决方桉,可满足需要一致和高质量结果的日常蚀刻需求。