二手 CSD EPITAXY EpiPro 5000 #293818798 待售

CSD EPITAXY EpiPro 5000是一种外延沉积设备，设计用于生产光电、先进材料和高性能集成电路的半导体结构。该系统是一个单室离散外延沉积反应器，旨在对所有与外延生长有关的参数提供高精度控制。利用电子束辅助生长技术，结合热和等离子体增强型化学气相沉积（EBE-CEV），达到优异的均匀性和质量。该装置能够将材料沉积在直径不超过200毫米、厚度不超过250毫米的基板上。EpiPro 5000采用的EBE-CEV技术旨在生产高纯度的外延层,并能很好地控制层厚和掺杂浓度。机器中使用的电子束是超刚性的，允许对层厚度和掺杂浓度进行非常精确的控制，而高阶光谱化学分析则允许对杂质检测进行近饱和水平的控制。此外，光束的任意扫描模式确保了最大基板尺寸的均匀沉积，从而改进了制造工艺的缩放。CSD EPITAXY EpiPro 5000还提供了几个额外的复杂过程控制层,以确保最高程度的一致性和质量。这包括通过现场光谱仪进行先进的沉积室监测，以检测沉积室内的气体，以及一个照相机组件，以实时监测生长情况，并检查缺陷和污染物。该工具还包括若干通风控制系统，以确保沉积室保持在最佳温度和压力。当涉及到外延沉积时,热量是另一个重要因素,EpiPro 5000的设计旨在解决这一问题,它采用了高性能的热力计和水冷却系统,旨在使基板和沉积室保持可接受的工作温度。此外，该资产还配备了惰性气流模型，以确保整个沉积室的均匀性，并最大限度地减少气流湍流。CSD EPITAXY EpiPro 5000还提供自动监控和参数控制,使科学家能够以较高的速度对困难过程进行试验。设备也极为可靠，使用得当，寿命长。总之,EpiPro 5000是一个高度先进和可靠的沉积系统,旨在产生高质量和均匀的外延层,并具有出色的控制和精度。