二手 GRAPHENE SQUARE TCVD-100A #293805641 待售

ID: 293805641
Thermal CVD System Safety cabinet Temperature: ~1100°C Testing uniformity: ≤±3% (3) Heating zones Chamber size, 4" Pumping unit: Rotary pump: Oil type Dry scroll pump Additional mechanical turbo pump Gas control unit: (4) Mass Flow Controllers (MFC).
GRAPHENE SQUARE TCVD-100A是一种尖端的化学气相沉积(CVD)反应器,设计用于合成具有精确控制和异常均匀性的优质石墨烯薄膜。这个先进的反应堆配备了最先进的特性,使研究人员和行业能够生产出大面积的石墨烯薄膜,用于广泛的应用,包括电子、储能、传感器等等。TCVD-100A反应器基于热CVD原理运行,这是一种在各种基材上合成石墨烯薄膜的成熟方法。该过程涉及在高温下分解含碳前体气体,如甲烷或乙烯,在底物表面上形成石墨烯层。GRAPHENE SQUARE TCVD-100A反应器旨在为优质石墨烯薄膜的生长提供一个稳定和受控的环境,具有非凡的性能。TCVD-100A反应堆的关键亮点之一是其高温运行能力,允许石墨烯薄膜在高达1000摄氏度的温度下生长。这种升高的温度范围对于促进前体气体分子的快速分解和在底物表面形成高质量的石墨烯层至关重要。此外,反应堆还配备了精确的温度控制系统,可确保整个基板均匀加热,从而实现一致的石墨烯膜厚度和质量。GRAPHENE SQUARE TCVD-100A反应堆具有垂直室设计,便于前体气体和热量在整个反应堆体积中的均匀分布。这种设计确保了高效的气流动力学,并最大限度地减少了能导致石墨烯膜中形成杂质的气相反应。垂直腔室配置还提供了方便地进入基板支架进行装卸样品,以及方便的维护和清洗反应堆部件。此外,TCVD-100A反应堆配备了先进的气体输送系统,能够精确控制前体气体的流量和成分。这种精确的控制对于优化石墨烯生长过程和实现所需的膜性能,如厚度、结晶度和电导率是必不可少的。反应堆允许使用各种前体气体和气体溷合物,使研究人员能够灵活探索不同的生长条件,并为特定应用量身定制石墨烯薄膜。GRAPHENE SQUARE TCVD-100A反应堆除了具有先进的热和气体处理特性外,还设计了易于操作和维护。反应堆控制系统人性化、直观,让研究人员设置生长参数,实时监控过程。反应堆腔室由高品质材料制成,能承受高温和腐蚀性气体,确保长期耐久性和可靠性。总体而言,TCVD-100A反应堆是研究人员和寻求生产具有特殊性能的高质量石墨烯薄膜的行业的有力工具。其先进的设计、高温操作能力、精确的气体控制和易用性使其成为石墨烯合成应用在广泛领域的理想选择。
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