二手 GSI UltraDep 1 #9304746 待售
网址复制成功！
单击可缩放
ID: 9304746
晶圆大小: 4"-6"
Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) System, 4"-6"
Deposition temperature: 200° - 400°C
Deposition rates range: 100 - 400 nm/min
Amorphous silicon (dropped and un-dropped)
Load lock
Single wafer load
Dual frequency
Microprocessor
Computer controlled
Stress controlled silicon nitrides
Oxynitride: 1.46 - 2.0 Refractive index range
TEOS Oxide
Doped oxide
PSG
BSG
BPSG
Configured with:
Helium
Nitrous oxide
Ammonia
Silane oxides
TEOS (Direct liquid inject)
PH3, B2H6 / He dopant mix
Oxygen
CF4 Gases
Oxide based:
Normal
Low stress
Nitride:
Stoichiometric
Low stress
Spare parts:
MFC
Hot plates
(2) Heaters
Pump missing
RF Supply for stress control: 13.56 MHz and 200 kHz.
GSI UltraDep 1是一个创新的核反应堆设计，结合了室外和室内反应堆的好处。这个新的反应堆设计利用了一个大型、风冷、干拱形和自立式安全壳容器。反应堆外壳包括一个容纳反应堆堆芯的钢制容器，以及一个独特的热和结构绝缘通风管，以尽量减少热量从反应堆传递到周围。这类反应堆被称为"压力容器"反应堆，因为它利用的是没有活动水循环的闭环系统。因此，这种设计降低了因泄漏而造成水污染的风险，同时也将反应堆意外释放的可能性降至最低。此外，它在防止辐射照射方面具有成本效益、效率和效力。与传统反应堆不同，UltraDep 1利用了一种独特的铀浓缩形式，这意味着所有使用的燃料都在一个地点。这降低了由于频繁的燃料移动而造成污染的风险，并允许非常紧凑的设计。这种设计还提高了安全性，因为燃料不会移动，而且保持在单一位置，这意味着不存在燃料处理不当的风险。此外，这种新的反应堆设计大大减少了所需的维护，因为它不依赖于有源水循环系统。相反，反应堆可以在"干运行"模式下运行，这意味着没有水基冷却环路。这样可以提高安全性,大大降低设计的复杂性。GSI UltraDep 1能够以较高的转换率产生能量,从而提高效率和降低运营成本。反应堆堆芯还保持较高的温度，允许增加功率输出，同时仍保持在安全标准之内。总体而言，UltraDep 1是革命性的反应堆设计，结合了室外和室内反应堆的优势，降低了污染、燃料处理不当和辐射暴露的风险。这种反应堆设计与其他传统的反应堆设计相比，具有产生高输出、更高效运行、需要更少维护的能力。
还没有评论