二手 LAM RESEARCH Altus Max #293804671 待售

製造商
LAM RESEARCH
模型
Altus Max
ID: 293804671
CVD Systems.
LAM RESEARCH Altus Max是一种高性能等离子体增强型化学气相沉积(PECVD)反应器,专为先进的材料沉积应用而设计。适用于多种工艺,包括高沉积速率和厚度可达5 nm的超薄层。该设备采用先进的源设计,对多种气体具有独立的气流、压力和温度控制。先进的工艺控制可为要求苛刻的薄膜应用实现三维均匀性。Altus Max提供集成的硬件和软件功能,用于优化过程控制。它具有最大正常运行时间的大线路负载、用于快速过程分析的最大Tempo™软件以及用于灵活系统控制的模块化体系结构。该单元还包括一个具有集成介质源的inno@mapper™ C1控制器,以及用于过程控制和测量的各级集成。LAM RESEARCH Altus Max是按照最高安全标准建造的,机器包含多种安全特性,如压力和温度监测、自动停机、可燃气体探测器等。该工具旨在通过最小化停机时间和维护来提供可靠的过程控制。Altus Max提供了多种售后模块,包括一个可选的机器人解决方桉以提高效率和冗余度,一个用于实时过程控制的电离仪和一个用于小型功能尺寸的大腔室。它还具有各种源和基板配置,包括单室和多室系统,以满足特定的应用需求。LAM RESEARCH Altus Max还设计了模块化体系结构,从单室到四室资产不等。通过其集成软件,该模型提供了快速、准确和稳定的过程参数控制,这对于实现一致的产品性能至关重要。集成软件还允许数据记录、过程优化和自动配方。总体而言,Altus Max是一种可靠、用户友好的PECVD反应堆,专为高调的先进材料沉积应用而设计。其先进的源代码设计、快速的过程控制、集成的自动化软件和广泛的售后模块使其成为许多行业的理想选择。
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