二手 LAM RESEARCH Altus #293814196 待售

LAM RESEARCH Altus是一种经过创新工程设计的反应堆，旨在在蚀刻和沉积过程中达到最佳性能。为材料的精确沉积和基板均匀性提供了更强的温度和压力控制.此外，它的通用技术平台使先进蚀刻和沉积技术的集成能够为给定的工艺提供最佳的组合。Altus的特点是一个紧凑的，完全封闭的反应堆，能够支撑许多不同的蚀刻和沉积配方。它提供无湍流编码，内部产生的压力，和优越的蚀刻和沉积速率，由于高精度和可重复性。该反应堆采用机器人友好、密封的机柜和内置的过程控制功能，使部署和集成变得简单。LAM RESEARCH Altus用途广泛、可靠，设有三个独立的腔室，可设置用于干蚀刻、湿蚀刻和原子层沉积（ALD）。腔室的设计增加了工艺的灵活性，允许沉积几种不同的材料而无需重新鉴定。自适应处理软件同时运行预定义的和专有的处理算法,以提高生产率、缩短周期时间并确保改进的流程性能。反应堆控制系统具有高精度的温度和压力控制，能够抵抗压力意外，并提供统一和可重现的过程。此外,Altus还利用集中式流程数据库来管理操作过程中记录的信息并存储配方。集成软件可配置为通过电子邮件将系统警报直接发送给操作员,以处理任何重大流程事件。LAM RESEARCH Altus是一个先进的蚀刻沉积反应堆，旨在为各种蚀刻和沉积过程提供最高性能、准确性和可重复性。通用的流程控制系统提供了卓越的可重复性，并消除了对流程重新认证的需求。凭借用于配方管理的集成流程数据库和内置的流程控制功能,Altus提供了最高效率和更高的生产率。