二手 LAM RESEARCH Altus #293818161 待售

LAM RESEARCH Altus是为薄膜沉积中的质量均匀性而设计的高效反应器。它采用自动机械平台设计，优化蚀刻剂和气体的分布，达到可重复的效果。Altus设计为模块化,允许根据应用程序的生产需求添加其他模块。它还有一个整体式机器人臂，用于精确和准确地装载/卸载基板。LAM RESEARCH Altus反应器能够进行广泛的过程，包括热和等离子体过程，如化学气相沉积（CVD）、等离子体增强CVD（PECVD）、物理气相沉积（PVD）、物理气相气相沉积（PVPD）、以及电气相沉积。其独特的设计和特点使其能够提供高精度和均匀性的基材蚀刻。阿尔特斯反应堆有广泛的参数，可以调整以适应不同的工艺需求。它利用复杂的软件来精确控制每个过程的操作参数。它还包括一个机载安全设备，以保护用户免受潜在危害。反应器由阳极截面和阴极截面组成。阳极部分由一个导电板组成，该导电板包含用于沉积的化学前体。阴极部分包含产生等离子体源的电极，该等离子体源轰炸阳极部分以启动沉积过程。LAM RESEARCH Altus反应堆还包括化学输送系统和快速反应单元。化学输送机为过程提供正确的反应性气体，而快速反应工具则提高了过程速度。这些系统共同实现了更高的吞吐量和更短的周期时间。最后，阿尔特斯反应堆还设计了原位监测能力，使其能够监测化学或反应参数的任何变化，使其能够相应地进行补偿。此功能有助于确保过程保持在最严格的公差范围内,从而确保始终如一地实现高质量的一致性和可重复性。