二手 LAM RESEARCH Altus #9163188 待售

LAM RESEARCH Altus是为各种现代半导体加工需求而设计的先进、紧凑的反应堆设备。特别是，Altus非常适合大体积、外延和低压化学气相沉积（CVD）的应用。LAM RESEARCH Altus反应堆是为处理大量吞吐量而建造的，具有广泛的精确温度控制和精确的反应时间能力。其设计基于封闭式高纯度石英管，带集总电阻加热元件，完全可编程、可配置的粉末进料器，通过集成质量流量控制器和阀门进行精确反应物控制。具有精确的温度控制、高纯度真空和精确的反应物控制，Altus反应堆系统能够提供高精度和可重复的结果。LAM RESEARCH Altus反应堆机组由于具有端到端可变加热卡巴比石、多个高纯度纯度石英制冷点和多个保护性金属层的先进热设计，在广泛的工艺条件下实现了高精度。先进的温度控制允许不同配方和工艺要求之间的快速转换时间，同时在整个机器中提供出色的温度均匀性。该工具还配备了自动压力控制,以确保资产的准确响应。这与完全可编程的反应物控制相结合，允许以最小的变化可重复的结果。Altus反应堆模型用途极为广泛，可与多种其他元件集成，用于综合CVD设备。该系统与多种气体、化学品和材料兼容，可配置用于处理垂直或平行过程运行。该反应堆还提供综合计量工具，用于过程监测、粒径确定和表面表征，以及用于自动化和优化加工作业的可自定义控制。为确保安全可靠运行，LAM RESEARCH Altus反应堆机组采用高档不锈钢和奇特金属建造，确保最大限度的结构完整性。机器还有一系列安全功能作为后盾，如惰性气体填充和清洗、过温保护和高压保护。该工具还得到ATEX的批准，并符合IEC6116和其他国际准则规定的条例。总体而言，Altus反应堆资产是一个先进的高性能CVD和外延沉积平台，在一系列工艺条件下提供无与伦比的精度和可重复性。通过它,用户能够在整个处理任务中实现出色的控制,从而确保与每批产品的一致性。