二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus extremefill #293625748 待售

LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus极端填充反应器是一种先进的等离子体蚀刻工艺，用于制造超收缩晶体管和MOSFET。反应堆使用了CF4、CHF3、氦等气体的组合，并使用氙气作为预清洁剂对金属进行蚀刻。这种由气体和氙气预清洁剂溷合而成的各向同性蚀刻环境使得能够在很宽的温度范围内严格控制鳍片轮廓。该反应器利用高密度等离子体，提供卓越的蚀刻性能和更高的吞吐量。这是通过提供具有卓越蚀刻均匀性的高等离子体密度来实现的。NOVELLUS Altus极端填充反应堆还利用独特的气体输送设备，确保整个蚀刻室的气体分布均匀。此功能结合NOVELLUS Advanced Process Control软件,可以精确控制蚀刻过程。LAM RESEARCH Altus极端填充反应堆还采用微型源/排水技术（MDT）.此技术允许创建深度为½到8微米的源/排水结构,从而提供更紧密控制的散热片轮廓,并具有卓越的深度控制和更高的功率效率。这项技术还可以消除源/排水结构中的热点,从而提高设备的均匀性。Altus极端填充反应堆还通过其嵌入式数字智能监督和过程控制（DIPC）系统提供最先进的过程控制。此单元提供高级监视、诊断和调整,以确保最佳性能。该机器还有助于减少产品周期时间,提高产量和过程可重复性。最后，LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus极端填充反应器是一种先进的等离子体蚀刻工艺，用于制造超收缩晶体管和MOSFET。它利用高密度等离子体提供卓越的蚀刻性能和更高的吞吐量,同时还提供微型源/排水技术和数字智能监督及过程控制等尖端工艺控制功能。