二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus #293754401 待售

LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus是一种下一代物理气相沉积（PVD）设备，设计用于在高性能半导体应用中使用的基板上先进沉积薄膜。NOVELLUS Altus具有先进的真空室体系结构,旨在在高室通量下提供卓越的性能,非常适合先进的薄膜层,从而实现更快的沉积速率和更高的吞吐量。该系统兼具高吞吐量和低拥有成本以及低维护要求。LAM RESEARCH Altus采用NOVELLUS专利的"全能"双反应堆技术，可以同时从两个来源沉积。两个源的组合使沉积速率比单一源单元更快，同时增加了均匀性。双反应堆还允许用户在基板顶部表面和底部表面的沉积之间切换，而无需更换产品所有者或等待重新加压。Altus利用LAM先进的薄膜控制机，提供温度、压力和真空的集成反馈控制，允许用户在沉积薄膜材料时精确控制多种变数。该控制工具还提供了对沉积均匀性、排斥率和均方根（RMS）粗糙度的出色控制。LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus基材转移资产提供高通量,同时最大限度地减少颗粒产生和污染。它还提供了可重复、自动化、真空兼容的基板翻转,从而实现了产品的快速变更。NOVELLUS Altus具有几个先进的安全系统，包括真空友好型、大容量的灭火模型，以及先进的电气机柜监控。此机柜控制还允许用户在发生停机或其他系统干扰时轻松监控和恢复设备健康。最后,LAM RESEARCH Altus在应用关键型PVD应用程序中实现了最高的工艺可靠性和卓越的性能,从而大大节省了成本。Altus是用于原型和生产应用的高性能PVD沉积的理想选择。