二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus #9098899 待售
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ID: 9098899
晶圆大小: 12"
优质的: 2012
CVD System, 12"
Front UI
Signal tower
IOC(AWC AutoCal)
EFEM & vacuum robot AWC
Ceramic end effector
ATM Robot arm type: Friction
VAC Robot & controller: Mag7
VAC Robot arm type: Leap-frog
L/L Pin lift type: Servo motor
EC Controller
Podloader: Vision
Loadlock slit valve type: VAT
Chamber slit valve type: SMC
Main power box: MPD
TM Throttle valve: MKS with controller
TM Gate valve: MDC
L/L Manometer: MKS 100Torr
TM Manometer: MKS 100Torr
Foreline gauge
UPC: BROOKS 5866RT, 3SLM
WTS Ar MFC: Aera, 2SLM
ATM door type: VAT
Data server
IREPD
Throttle valve
Throttle valve controller
Gate valve: VAT
Spindle type (Air or Servo): Servo motor
Pedestal 1 Pin lift type(Air or Servo): Servo motor
F/S Pressure gauge: MKS 10 Torr
F/S Pressure gauge: MKS 100 Torr
Stn#2~4 B/S pressure gauge: MKS 100 Torr
Stn#1 B/S pressure gauge: MKS 100 Torr
IOC's: HDSIOC 0,1 and 2
ALD Valve monitoring kit
Remote plasma source: Astron e/ex
Pedestal
Shower head
UPC : BROOKS 5866RT, 3SLM
Gas box : LRW
MFC:
GF125CXXC
GF125CXXC
MFC K WF6 500
MFC J WF6 500
MFC N 5%B2H6/N2 500
MFC E WF6 500
MFC 5 WF6 500
MFC I NF3 1000
MFC 4 Ar 20000
MFC 3 H2 30000
MFC C Ar 20000
MFC 9 H2 30000
MFC 8 Ar 20000
MFC 1 Ar 5000
MFC 2 SiH4 500
MFC G SiH4 500
MFC F Ar 5000
MFC D Ar 20000
MFC P Ar 20000
MFC B N2 2000
MFC M Ar 20000
MFC X 5%B2H6/N2 750
2012 vintage.
LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus是一种多室真空等离子体化学气相沉积（VPCVD）反应器，用于集成电路和半导体器件的制造。该反应堆适用于先进、高性能结构的大批量生产，能够沉积厚度极均匀的薄膜，是制造尖端微电子器件的理想选择。反应堆由多个通过输送线连接的腔室组成。该室包括一个预清洁室、CVD室、蚀刻室、冷却室和沉积室。预清洗室采用一种特殊的加热顺序，有助于通过溅射去除晶片表面的任何污垢和氧化。其次是CVD室，其中包括单体或前体的反应物沉积在晶圆表面上。接着是等离子体蚀刻循环，它从晶圆表面去除了多余的化合物，并有助于达到优选的形状。冷却室配置为在转移到沉积室前平衡晶圆的温度。沉积室是发生初级薄膜沉积过程的地方。这是通过将放热化学活性气体的溷合物通过晶圆表面来实现的。不断监测和保持溷合物，同时严格监测温度、压力和其他条件，以保证最佳沉积。沉积可以发生在亚微米到几十微米的厚度取决于所需的结构。NOVELLUS Altus具有可靠和可重复的性能,可重现紧密的过程控制,具有低均匀性变化和极好的厚度均匀性,直至15nm以下分辨率。其高度自动化的批处理设计允许高生产吞吐量和最小的停机时间。该反应堆还具有出色的等离子体控制功能,旨在为先进的设备体系结构和结构（如FinFET、应变层、SOI结构）铺平道路。
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