二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus #9241282 待售

LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus
ID: 9241282
晶圆大小: 12"
优质的: 2005
System, 12" 2005 vintage.
LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus是一种用于半导体制造过程的先进沉积反应器。它是为高通量和精确薄膜而设计的单室系统。反应堆设计用于电介质、金属和其他材料的沉积。NOVELLUS Altus反应堆利用电子回旋共振(ECR)技术创造了它的等离子体,允许在更受控的环境中进行高温蚀刻。等离子体的高度确保反应物暴露在高能量下,腔室采用独特的多模操作,既能处理低温又能处理高温。单室设计也允许较小的晶圆尺寸,如光子应用中使用的。它能够生产出高度均匀且跨晶片高度均匀的超净涂层。晶圆温度可以在沉积过程中进行调整,从而可以更好地控制最终结果。LAM RESEARCH Altus反应堆还采用智能过程控制,允许用户在整个沉积过程中监控和控制过程参数。该方法可用于优化沉积,确保薄膜在晶片上的最佳均匀性。智能过程控制还确保过程完全可重复,具有均匀的薄膜.Altus是任何寻求提供高精度和重复性的高级沉积系统的人的理想选择。其单室设计使其能够同时处理低温和高温过程,其智能过程控制允许对均匀性进行更大程度的控制。它处理小晶片尺寸的能力使得它特别适合光子应用。
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