二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus #9255626 待售

LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus是PECVD反应器（等离子体增强化学气相沉积）的一种。它是半导体工业中用于将薄膜沉积到基板上的工具。适合于低温沉积要求快速处理时间的应用。NOVELLUS Altus设备使用横向射频驱动的等离子体将所需材料的薄膜沉积在基板上。该系统的工作原理是将反应性气体引入其加工室。经过一系列排气过滤器后，气体受到电子轰击，导致其分解成反应性原子和分子。腔室的电池壁衬有高导电电极，产生一个有源射频场。这允许沿着腔室的长度和宽度产生温和的等离子体微放电，产生高能反应性物质，与进入的沉积气体发生反应。由LAM RESEARCH Altus单元生产的沉积膜均匀无水，应力低，附着力优良。它能够将介电、导电、金属或抗菌薄膜沉积在多种底物上。该机具有内置的温度和压力监测功能，能够现场监测沉积膜的厚度。这确保了处理过程中的一致性和可重复性。该工具还具有快速斜坡上升时间、低温等离子体生成和减少处理时间等特点。腔室能够达到高达450摄氏度的温度，反应时间降低到几秒钟。它配备了用于远程控制和监控的工具和配方管理软件，以及用于优化和自动化的集中分析能力。Altus反应堆资产广泛用于从高级封装到MEMS设备，到高级电路集成等多种应用。这使得它成为半导体工业的绝佳底物。其低温沉积能力使其成为加工MEMS结构等制图和平面化过程的理想选择，在这些过程中，较高的温度会造成热损伤。LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus反应堆也很容易修改，以适应不同的沉积要求。其定制功能使其适合广泛的应用。从功率放大器的绝缘子沉积到微流体系统的保护层沉积，NOVELLUS Altus反应器是半导体沉积的通用工具。