二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus #9261404 待售

LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus是微电子工业中用于半导体基板材料沉积的反应堆。它提供了高效的工艺将材料层，如栅极氧化物、光致抗蚀剂、聚酰亚胺和富氮氮化硅沉积到半导体基板上。NOVELLUS Altus反应堆利用多种技术沉积这些层，如化学气相沉积（CVD）、低压CVD（LPCVD）、物理气相沉积（PVD）和电子回旋共振（ECR）。CVD工艺涉及气体前体，它们在高温下反应，在基板表面形成均匀的薄膜。LPCVD工艺是CVD的低温变化，常用于厚或hi-k栅极氧化物。PVD过程涉及从源材料以溅射目标的形式将材料高能沉积到晶片上，通常在低压下进行。最后，ECR涉及使用微波源使工艺气体电离，产生等离子体，然后用于将层沉积在基板上。LAM RESEARCH Altus反应堆采用用户界面构建，提供对其特性和设置的无缝访问，方便为每一层定制沉积配方和工艺参数。反应堆还具有多区能力，允许最多八个不同的沉积过程同时运行，每个区最多四个不同的底物。此外,真空源的设计还可以保持工序室周围的基本压力,并提供快速的泵降时间,以提高生产率。Altus反应堆是在半导体基板上沉积材料的绝佳选择，因为它为用户提供了丰富的定制和自动化选项，以实现可靠和统一的结果。它的多区能力和快速泵降时间进一步提高了工艺效率，而且其用户友好的界面使得反应堆的配置更容易获得最佳效果。