二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus #9261411 待售

LAM RESEARCHY/NOVELLUS Altus是一种高性能等离子体增强化学气相沉积（PECVD）反应器设备，用于低温氧化物和高温氮化物膜的沉积。它允许沉积各种厚度和密度的微米和亚微米级层，在大晶圆尺寸上具有极好的均匀性。该系统基于标准的LAMNOVELLUS PECVD工艺，这是一种高频、高占位周期脉冲工艺，配置为高通量，氧化膜的沉积时间为毫秒，氮化物膜的沉积时间为亚毫秒。NOVELLUS Altus反应堆通过其专有的等离子体增强化学气相沉积（起飞）技术改进了这一过程。该单元采用独特的多脉冲机制，对从腔室供应的反应物产生可重复的等离子体增强反应，产生均匀性极佳、保形性突出的薄膜。LAM RESEARCH Altus反应堆还具有专有的高级等离子体隔离功能，可在广泛的基板上保持稳定的工艺窗口。这些新的隔离系统有助于减少失控反应，消除整个晶片的温度变化，从而实现更好的薄膜厚度均匀性和更少的工艺偏移。机器的模块化设计允许用户在氧化物和氮化物模式之间快速变化，并调整气流和脉冲参数来修改薄膜特性。高度通用的Altus工具还为高级沉积监测提供了多种选择，包括非接触式反射率和直接写入激光反射率。LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus附有电脑控制的环境管理资产，以确保流程的品质与一致性。低频噪声通过先进的隔离系统最小化，操作员界面使模型操作简单高效。该设备可用于从MEMS到平板显示器的广泛应用，适用于工具和研究应用。