二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus #9261430 待售
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LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus是一种物理气相沉积（PVD）原子源反应器。该设备旨在提供对薄膜沉积速率、温度、压力和其他工艺条件的精确控制，从而确保在基材上均匀、精确的涂层。它配备了低功率、高密度的离子源，允许薄膜层在基板上的精确沉积。该系统包括高分辨率离子源、用于将等离子体和基板结合在一起的等离子体加工室以及控制加工条件的电源。高分辨率光源能够产生高电流密度，使薄膜的沉积得到控制和均匀。作为单元心脏的等离子体处理室允许产生低功率、高密度的等离子体。这种等离子体对于薄膜在低温下的精确沉积是必需的，从而导致低材料消耗和更好的电气、光学和机械性能。该机还包括几个技术部件，如基板固定环、加热器、冷却部分和离子驱动的预整形单元。基板固定环有助于在聚氯乙烯工艺开始之前对基板材料进行定位和预处理。工具的加热部分移动迅速，加速了薄膜的沉积过程，而冷却部分则有助于在整个PVD沉积过程中保持均匀的温度。此外,预成型单元位于基板固定环和聚氯乙烯腔室之间,有助于创建具有所需厚度和组成的精确层。资产可以加工铝、铜、硅和玻璃等多种不同的基材。此外，该模型能够沉积许多不同类型的材料，包括铬、铝、钛和钨。NOVELLUS Altus PVD设备对于为当今先进电子设备的关键组件创建精确、均匀和适当的薄膜层至关重要。材料在基板上的准确沉积保证了零件和产品的质量，确保了可靠有效的性能。该系统拥有丰富的技术成分，非常适合在各种温度和工艺条件下制作精确的薄膜。
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