二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus #9270995 待售

LAM RESEARCHY/NOVELLUS Altus是一种用于制造半导体器件的感应耦合等离子体反应器。这项技术使用环形等离子体腔室来创建和维持等离子体。它有一个厚壁石英室，保持在不同的压力和大气。这个腔室充满了一种气体溷合物，其中电子被激发到高能级并被电离，形成一个等离子体。然后，该等离子体用于将指定材料的薄膜层沉积在晶圆上。NOVELLUS Altus反应堆利用了几种工艺气体的溷合物，其中包括的有氙气、氧气、氮气、氢气、六氟化硫，以及稀有气体如氦气和氙气。这些气体以每种气体的预设流量引入腔室。外部等离子体发生器在室内产生高能等离子体，将其加热到通常在500至1200摄氏度之间的温度。这个等离子体可以激活和分解过程气体的分子，然后在晶圆表面上反应。晶片有偏差以增加其表面的蚀刻反应和材料沉积。LAM RESEARCH Altus反应堆相对于标准等离子体反应堆的主要优点是对蚀刻工艺的控制和灵活性增强。控制器允许用户通过控制每个工艺气体的量、流速和光束功率来微调等离子体的效果。此外，它可以很容易的改变来创建不同类型的表面拓扑，像平面化和3D蚀刻，这是需要先进的芯片设计。最后，Altus反应堆是一种在半导体器件上沉积和蚀刻材料层的高度可靠和高效的工具。它还具有经济效益，允许客户利用其高级功能而不会破坏银行。LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus的设计多才多艺,是任何半导体制造商的理想选择。