二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus #9271265 待售

LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus是一种用于半导体制造过程的热化学气相沉积（CVD）反应器。其设计提供高精度、低温过程、超低压操作。NOVELLUS Altus利用涡扇泵来实现卓越的沉积均匀性和参数重复，而牺牲了更高的功耗。为了满足需要更高沉积速率的薄膜应用，LAM RESEARCH Altus使用石英船将两个热CVD源结合在一起，以便可靠地沉积保形薄膜。这种CVD源的组合产生350°C至575°C的温度范围以及0.1°C的精确温度控制。此外,Altus还配备了获得NOVELLUS专利的薄膜源喷嘴,其设计目的是在广阔的区域内产生均匀性的沉积。可将工艺压力从10 Torr调整为1 Torr,以获得最佳薄膜效果。LAM RESEARCHY/NOVELLUS Altus设计用于在广泛的基板上运行,并提供将材料沉积到大面积基板上的能力。薄膜沉积可以通过可变沉积速率控制以及在主源和基板之间包括可调节的偏置电压来进行微调。其设计包括一个无空隙电压植入窗口，并被封闭在石英管中，以进行有效的真空控制。为了确保加工零件的一致性和均匀性,NOVELLUS Altus配备了线性电机执行器,可在垂直和水平方向精确移动腔室附件,分辨率为0.5 µm。此外,LAM RESEARCH Altus还包括LabVIEW Graphical Development Environment及其自定义脚本语言,可实现自动化、准确和可重复的过程控制。Altus是一种可靠、高效的沉积CVD反应器，可以最佳地将薄膜层加工到多种底物上。LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus凭借其高精度的热控制、超低压操作和可调节的工艺参数，为制造商提供打造高品质产品所需的精度和性能。