二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus #9315037 待售

LAM RESEARCH / NOVELLUS Altus
ID: 9315037
晶圆大小: 12"
优质的: 2003
Metal CVD system, 12" 2003 vintage.
LAM RESEARCH/NOVELLUS Altus是为介电膜应用而设计的先进热真空反应器。它由真空室、辐射源、腔室压力控制器、加热器、质量流量控制器和气体分配设备组成。真空室为沉积和沉积后过程提供了一个清洁的环境。辐射源为沉积过程创造了必要的条件,而腔室压力控制器则调节腔室内的压力。加热器确保在沉积过程中保持适当的温度,质量流控制器测量压力,以确保有效使用气体。气体分配系统将氮气和氢气分布在整个腔室中进行统一的过程。该装置还监测腔室的清洗过程,以确保沉积成功。NOVELLUS Altus利用循环时间和通过多个配方和程序的直通式优化。它在一种经济高效的介电膜沉积解决方桉中具有很高的可重复性。该机设计用于高质量的发光层薄膜沉积,同时最大限度地减少污染和缺陷。此外,该工具的可选流程控制器还提供基于软件的流程控制和数据管理。LAM RESEARCH Altus是一种可靠、坚固、用户友好的资产,可为多种应用提供先进的热真空沉积。
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