二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel #9251470 待售

LAM RESEARCH / NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel
ID: 9251470
晶圆大小: 8"
优质的: 2001
CVD System, 8" 2001 vintage.
LAM RESEARCH/NOVELLUS Concept 2双速续集(DSS)反应器是一种经过工业验证的技术,设计用于制造等离子体蚀刻、化学气相沉积和物理气相沉积。DSS反应堆是一种多功能设备,将LAM和NOVELLUS技术的最佳特性结合到一个能够执行所有沉积和蚀刻过程的单一平台中。DSS提供了一个大蚀刻室,具有良好的均匀性,高通量和灵活性的气体化学。NOVELLUS Concept 2 Dual Speed Sequel反应堆设计为提供卓越的等离子体蚀刻性能和控制。蚀刻过程具有很高的可重复性和均匀性,导致精确特征和狭窄的目标轮廓。先进的等离子体蚀刻系统提供高吞吐量和低污染水平,允许更高的产量和更快的上市时间。DSS还包括一个化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)单元,用于沉积硅、二氧化硅、金属化合物等材料的薄膜,用于半导体器件制造。CVD机具有高温运行能力,使团队能够沉积二氧化硅、金刚石状碳等硬质材料。该工具提供了卓越的均匀性和减少污染的高产率。此外,LAM RESEARCH Concept 2双速续集反应堆提供物理气相沉积(PVD)工艺。PVD可用于沉积金属薄膜,用于接触金属、金属互连和其他电气元件。PVD资产具有很高的可靠性和可重复性,具有极好的附着力和沉积均匀性,产生的颗粒极少。Concept 2 Dual Speed Sequel反应堆提供了令人印象深刻的功能集,包括先进的气体化学、低污染、高吞吐量、最先进的控制功能,以及单一平台中的各种不同过程。这些特性使该模型成为半导体和其他薄膜器件制造工艺的理想选择。
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