二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS Concept 2 Dual Speed #293819862 待售
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ID: 293819862
晶圆大小: 8"
优质的: 2011
HDP CVD System, 8"
(2) Channels
Perfluorinated Chemicals (PFC) Detoxification
2011 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2双速反应器是一种用于蚀刻、沉积和热处理应用的高性能解决方桉。它设计有两个独立的过程在一个单室，允许用户创造各种微观结构和材料。双速反应堆能够双速运行，使用两种气体时可达到高达1400 °C的高温。它提供快速的热处理和低的屏障沉积速率，使其适用于从LED制造到硅器件的各种应用。对于某些工艺，可以使用两步梯度速率来提高蚀刻速率。双速反应堆的特点是水平拆分床装有两个独立的弹药筒。这些反应堆有两个独立的喷射器，根据工艺的需要，这些喷射器可以填充任意组合的工艺气体--氢气、氧气、氮气和氙气。反应物可以单独研究，也可以结合不同的化学研究。反应堆的设计旨在从一个过程快速过渡到下一个过程，从而实现快速循环时间。双速反应堆具有高功率传递和扩散均匀性，非常适合深层蚀刻，包括钨沉积等工艺。适用于干式、湿式、快速热氧化退火等常规生产应用。该反应器还可用于表面清洁、接触和间隙填充、铜沉积、MEMS和晶体管制造。双速反应堆配备了NOVELLUS APS系统，使用户可以轻松监控温度、压力、反应物和配方设置。此外,CPXII模块支持自动晶片处理,以实现快速和可重复的性能。此外，双速反应堆设有先进的冷却系统，包括螺旋腔和旋转气体分发器，以提高效率。该系统有助于确保过程稳定,并在各种过程条件下保持一致性。反应堆采用高性能、低维护设计，界面直观，可配置为满足特定客户需求。CONCEPT 2双速反应堆是市场上最先进的蚀刻沉积反应堆之一。具有独特的两步梯度速率、可调温度和两个独立的过程，适用于各种各样的应用。它还具有高功率传递和卓越的反应性均匀性,非常适合各种生产过程。
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