二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS Concept 2 Sequel-X #9293855 待售

LAM RESEARCH/NOVELLUS Concept 2 Seque-X是半导体反应堆设计中的先进概念。它是一种独特的等离子体蚀刻工具，它结合了传统等离子体蚀刻的功率和能力以及独特的无障碍蚀刻工艺。这使得它非常适合满足要求最苛刻的高密度高密度器件制造要求。它还提供了前所未有的过程灵活性和可扩展性。NOVELLUS Concept 2 Sequel-X反应堆的设计提供了不同寻常的特性和灵活性的平衡组合-具有良好的蚀刻能力和改进的多种工艺能力。它具有双频等离子体能力，允许对侵蚀性离子与那些能够提供更均匀蚀刻并改进对蚀刻深度和形状的控制的侵蚀性离子进行分离处理。因此,它的用途极为广泛,而且非常适合不同的应用以及一系列的金属和介电表面。Seque-X反应堆配备了专有的冷却技术，可以设置来处理高达400 °C的底物温度。这种尖端的热管理确保了整个腔室的温度分布平衡，消除了热点和热边缘。它还允许延长生产运行时间、提高生产率以及提高工艺产量。LAM RESEARCH Concept 2 Seque-X的其他一些关键特性包括其获得专利的双磁场发生器，能够独立控制离子密度和能量分布；其整体浮动端板设计，稳定等离子体分布，最大限度地减少整个腔室的变化；以及它的高频射频发生器，允许将蚀刻速率提高到2 µm的硅。综上所述，Concept 2 Sequel-X是真正革命性的反应堆设计，提供突破性的过程灵活性和可扩展性，适合最苛刻的应用。其先进的冷却技术、双频等离子体、双磁场发生器、集成浮动端板设计以及高频射频发生器，使其能够满足最严格的光刻要求，同时提供前所未有的工艺效率。