二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS Concept 2 Sequel #9251473 待售

LAM RESEARCH/NOVELLUS Concept 2 Sequel是一款高性能的电子束光刻（EBL）设备，用于创建用于精密制造的纳米级图桉。该系统有能力创建极其精确的模式，适合广泛的工艺，包括半导体器件制造、计算机内存生产和显示器制造。NOVELLUS Concept 2 Sequel是基于电子束光刻（EBL）的概念，这是一个利用电子束在基板上精确图样的过程。光刻是通过在基板上施加图样遮罩，并在图样所需的位置精确移动电子束来完成的。在LAM RESEARCH Concept 2 Sequel中，电子束通过对电子束的运动应用数字信号处理来进行数位控制，以便将电子束精确定位在样品上。这种对光束位置的严密控制，结合同步光学单元的精确度，使Concept 2 Sequel实现了纳米级分辨率。LAM RESEARCH/NOVELLUS Concept 2 Sequel还结合了几个功能来提升吞吐量和产量。电子源和加热元件、束电流和能量调节以及防止过度暴露造成事故的互锁和安全系统等特点，成功地提高了产生所需图样的速率。NOVELLUS Concept 2 Sequel还能够进行各种曝光时间和模式密度控制，使设备能够灵活处理不同类型的应用。机器的另一个关键特性是冗余EBL功能,它能够在两个不同的梁"头"之间快速切换,从而使刀具的工作效率提高一倍。此外，该资产被设计为适合一系列洁净室设施，可以很容易地与其他生产系统集成，以最大限度地提高效率。总体而言，LAM RESEARCH Concept 2 Sequel是一种高度可靠且用途广泛的EBL模型，能够准确、精确地制作纳米级图桉。对于任何需要高性能、高精度的半导体器件制造和其他电子生产技术的设施来说，它都是必不可少的工具。