二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS Concept 2 Sequel #9251475 待售

LAM RESEARCH/NOVELLUS Concept 2 Sequel是一种用于化学气相沉积（CVD）的半导体制造的反应堆。它由两个主要组成部分：工艺室和远程维护模块（RMM）。加工室是主要的加工单元，其设计目的是优化所需材料在基板上的沉积。RMM是负责维护的设备的一部分，包括清洗和校准工艺室。该工艺室设有单晶片、石英淋浴头和气体分配板。石英喷头提供均匀的气体分布，使材料均匀沉积到基板上。气体分配板能够将所需的气体精确供应到加工室的源侧。这允许控制源气体的浓度和反应气氛的均匀性。NOVELLUS Concept 2 Sequel也有两种不同的均匀性控制系统。第一个系统是工艺温度均匀性单元（PTUS），用于监测和调节CVD生长过程中工艺室的温度。第二台机器是气体均匀性工具（GUS），用于控制源气体的输送，实现精确的气体均匀性。LAM RESEARCH Concept 2 Sequel的RMM包含隔离阀监测、压力控制管理、泵速调节等一系列自动化维护功能。这些维护功能允许改进过程控制和可靠性。RMM还配备了集成涡轮分子泵，用于维持低工艺室压力。概念2续集有G2和G3两种不同的尺寸。这两个反应堆的设计都是为了生产半导体工业所必需的高质量材料。它们还具有先进的自动化和集成的气体输送系统,可实现精确、可重复的处理。LAM RESEARCH/NOVELLUS Concept 2 Sequel可用于外延、金属沉积、氧化物和氮化物等多种CVD应用。