二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS Concept 3 Altus Max #293618240 待售
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LAM RESEARCHY/NOVELLUS Altus矢量反应器（AVR）是一种先进的薄膜沉积和非soc底物蚀刻工具。它是一个高容量、高性能的反应堆，提供精确、快速和高度可重复的处理。它能够以一微米的分辨率蚀刻基板，允许增加密度和更小的特征尺寸。AVR利用基于物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）、电子束感应蚀刻（EBID）和电化学电镀（ECP）的自动化连续真空过程。这种独特的技术组合增强了材料沉积和蚀刻过程的均匀性和控制力。PVD和CVD工艺的结合有助于减少不良的氧化化合物，并允许沉积具有高均匀性和准确性的复杂多层结构。ECP工艺使电化学电镀材料具有高分辨率和高速度.此过程通常用于集成电路级功能或MEM级功能。最后，EBID工艺用于具有优异形态学控制和均匀性的蚀刻材料，使蚀刻特征具有较高的可靠性和精度。AVR拥有晶圆处理和过程交付的通用平台，使其成为多种应用的理想工具。它利用先进的真空技术和辅助工艺，如惰性和反应性气体净化，提供清洁的工艺环境，减少污染。单片卡带处理系统允许精确放置多个用于执行实时过程控制的"金"片。此外，AVR拥有广泛的食谱，便于制作精密的结构，具有精确的蚀刻、精确的重复性和对蚀刻速率、均匀性和特征大小的精确控制。总体而言，AVR为薄膜的蚀刻和沉积提供了可靠和精确的工艺。它结合了先进的工艺、精确的晶圆处理和多用途的配方设计，使其成为各种应用的绝佳工具，从MEM到大规模处理。
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