二手 LAM RESEARCH / NOVELLUS EFX MOD C for Concept 3 Altus #293625749 待售

LAM RESEARCH/NOVELLUS EFX MOD C for Concept 3 Altus是一种设计用于半导体制造的高精度、多功能蚀刻反应器。EFX Mod C的高级功能为蚀刻化学和工艺参数提供了高效、可重复的控制。它采用最先进的、高通量的、直接驱动的多区腔室设计,以最大程度地减少蚀刻速率变化并消除掩模尖峰。多区室有三个纵向和两个横向区，都可以独立配置。双源气体输送设备，结合可调化妆气体水平，提供控制和微调等离子蚀刻过程的能力。分布式静电卡盘在整个末端产生均匀的磁场,以确保均匀蚀刻。EFX Mod C采用电源输送系统设计,可实现更大的过程灵活性和控制。这是通过获得专利的频率交换方法实现的，该方法能够控制和管理蚀刻速率的可变性。腔室还设计有先进的冷却装置，允许使用高温蚀刻工艺，对基板的热损害最小。通过仔细控制冷却气体的压力、流量和温度，铝基板保持未损坏，硅保持均匀图样。EFX Mod C支持使用基于氯和氟的蚀刻化学方法。通过允许用户控制相对化学水平和蚀刻速率，EFX Mod C使各种工艺参数得到控制和监控。EFX Mod C是控制先进半导体器件制造行业精密蚀刻工艺的有力工具。凭借其双源气体输送机、可调化妆气体水平、分布式静电卡盘以及先进的冷却工具，为用户提供了产生高质量效果所需的控制和可预测性。EFX Mod C赢得了业界领先的蚀刻反应堆的地位,为用户提供了更高的蚀刻速率精度、降低的热损坏和更大的工艺灵活性。