二手 LAM RESEARCH Sabre 3D #293811097 待售

LAM RESEARCH Sabre 3D反应器是一种先进的蚀刻工具，专为半导体工业中的高纵横比制造而设计。这种单晶片系统采用了最先进的电子回旋共振（ECR）等离子体技术，产生了优越的蚀刻性能，优化了困难材料的蚀刻速率。Sabre 3D反应器的性能比传统的ECR系统显着提高，原因是在反应室中加入了先进的3D电极。这种设计使用户能够通过更大的过程控制获得精确的微加工结果。LAM RESEARCH Sabre 3D反应器的建造是为了便于在具有高通量的深亚微米技术节点中快速成型和特征制造。ECR等离子体源结合集成的高频容积ECR源，使用户能够蚀刻广泛的材料如硅、铜、铝等。Sabre 3D反应堆的氮化物钝化层设计为能够在不损害晶圆完整性的情况下进行快速蚀刻，并且原位清洁能力确保了最小的表面污染或损坏。结合先进的流程管理技术，可以进一步提高蚀刻工艺的均匀性。这允许整个晶片表面的均匀性，这对于过程优化和缺陷控制很重要。此外，LAM RESEARCH Sabre 3D反应堆还提供集成的气体输送系统，便于过程设置和改进过程控制。这些系统能够对蚀刻过程进行精确的参数控制。Sabre3D反应器所提供的优越的工艺控制，结合其高通量速率，使其成为高纵横比制造的理想选择。其创新的三维电极设计在蚀刻过程中提供了均匀性，并且由于能够保持腔室清洁而减少了停机时间。它是一种灵活、强大的深亚微米制造工具，是需要精确工艺控制的行业的可靠选择。