二手 LAM RESEARCH Sabre #9167356 待售

看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。

製造商
LAM RESEARCH
模型
Sabre
ID: 9167356
晶圆大小: 12"
优质的: 2012
Advanced wafer-level packaging system, 12" Software OS: Window Equipment status: In-line Type: Non-SMIF Automation online component: SECE Wafer type: Notch at 6 o'clock In-line flow: Left Software: Y2K Completion: Yes WL & RL: RL Type: Left PPD Type: PPD2 Laser: Vender: Other Chuck: Ring 2012 vintage.
LAM RESEARCH SABRE是一种等离子体蚀刻反应器,旨在提供先进的等离子体蚀刻溶液。该系统是业内首批在同一台机器中同时提供低压和高压等离子体工艺的系统之一,使客户既节省时间又节省金钱。高压蚀刻工艺是接触和金属蚀刻等应用的理想选择,低压工艺是介电材料蚀刻的理想选择。反应堆是一个成品干蚀刻器,这意味着它可以提供低压和高压蚀刻过程,而不需要任何额外的气体分配系统(GDS)。SABRE在所有级别的晶片上提供了出色的一致性,确保了更高的产量和最高质量的零件。它还具有转角四重奏技术,该技术提供了比大型几何更高的产品质量,并且具有最小的工艺步骤。LAM RESEARCH SABRE还提供快速蚀刻速率、出色的过程控制和可重复性、内置过程数据库支持以及在短短几分钟内校准不同配方的功能。反应堆还提供了与iMap等Fab级自动化系统的完全集成,这使得该系统成为自动制造的完美选择。SABRE的内置软件以及单片加载(SWL)功能,允许高吞吐量和灵活性,更易于设置和操作。SWL功能使用户可以选择合适的蚀刻室温度、目标压力、预填充气体流量以及工艺配方。这样可以节省用户宝贵的时间并消除手动操作。LAM RESEARCH SABRE旨在提高工艺可靠性、稳定性和生产率。它提供快速的工具启动时间和强大的配方,使用户能够提高生产效率和降低成本。集成过程数据库、自动化配方开发、角四方技术使系统易于使用、可靠、灵活。它是任何等离子体蚀刻需求的绝佳选择。
还没有评论