二手 LAM RESEARCH Sabre #9200240 待售

LAM RESEARCH Sabre是由LAM RESEARCH为半导体应用目的而打造的高性能等离子蚀刻设备。该系统利用独特的多模式工艺室提供更大的蚀刻灵活性,使客户能够获得更好的蚀刻深度和更高的工艺选择性。佩刀加工室采用先进的中空阴极设计，针对蚀刻进行了优化。它旨在提供高蚀刻速率、均匀的蚀刻轮廓和出色的选择性。该单元配备了一个强大的射频发生器，使用户能够快速设置和调整他们所需的蚀刻轮廓的参数。该机可进行调谐，为各种蚀刻配方提供最佳性能。用户还可以根据需要从各种室内配置中进行选择。该工具可配置单一或双气体淋浴头,使客户能够为其特定应用程序选择最佳选项。LAM RESEARCH Sabre工艺室还利用LAM RESEARCH SureGrip™技术，实现精确的蚀刻控制和可重复性。该腔室还装有一个主动等离子体准直器，允许提高蚀刻均匀性和过程可重复性。此外，Sabre资产还包括流程控制软件，帮助用户快速实现性能目标。LAM RESEARCH Sabre模型可用于各种蚀刻过程，包括高纵横比特征的深浅蚀刻。它是微型化超小型特征的理想选择，可用于干蚀刻或光刻蚀刻。该设备还具有低气体流动能力，使用户能够以最低的气体消耗进行蚀刻。总体而言，LAM RESEARCH的Sabre反应堆是一个功能强大的蚀刻系统，具有优异的蚀刻性能和可靠性。其广泛的可配置性和功能使其成为许多半导体工艺的绝佳选择,为用户提供了满足其需求的有效解决方桉。