二手 LAM RESEARCH STRATA-GX #293626279 待售

LAM RESEARCH STRATA-GX是一种高性能的感应耦合等离子体反应器，旨在为各种底物提供先进的蚀刻加工能力。燃烧室结构和组件的反应堆组合使得可重复、高密度的等离子体（HDP）处理能够提高工艺速率。STRATA-GX反应器为包括MEMS、深硅、生物医学和平板显示应用在内的多种应用提供几何上均匀、具有低基板失真的高速蚀刻。该反应堆结合了多点敏感器、三区线性感应耦合等离子体（LICP）源和均匀的输电系统，从而在各种工艺流程和多重蚀刻速率中产生可重复的结果。LAM RESEARCH STRATA-GX旨在通过在宽广的工艺窗口中提供卓越的均匀性,进一步减少等离子体损伤并优化蚀刻工艺。STRATA-GX反应堆的设计允许广泛的过程参数，包括等离子体密度控制、定制压力剖面、多等离子体定时、多点均匀性和功率控制。这种灵活性使用户能够优化蚀刻性能,并从高级工艺控制中受益。LAM RESEARCH STRATA-GX针对等离子体化学相互作用进行了优化，有助于减少颗粒形成和蚀刻损伤。该反应器具有优化的脉宽调制控制功能，能够控制反应物和产物气体。PWM特性进一步控制了反应物的流动性，并允许更大的均匀性和更少的边缘偏置蚀刻。STRATA-GX还具有先进的孔径系统,允许在基板上放置较大的孔径,以确保在较高的蚀刻速率下具有更大的均匀性。开孔系统还有助于提高蚀刻选择性，因为一种材料的蚀刻速率高于另一种材料。LAM RESEARCH STRATA-GX反应堆为大批量器件生产提供了无与伦比的吞吐量，也向后兼容了大多数现有蚀刻加工元件。STRATA-GX是希望在蚀刻生产能力方面获得竞争优势的设备工程师的理想工具。