二手 NOVELLUS Altus Chamber #9204833 待售

NOVELLUS Altus Chamber是一个革命性的蚀刻反应堆，设计用于在芯片铸造厂的半导体制造单元（Fabs）中执行高质量的工艺。该反应堆能够提供最佳蚀刻参数，以制造更复杂、更小的芯片，尺寸从0.21到65nm不等。该腔室的特点是其完全对称的设计，确保蚀刻结果在所有晶片表面的均匀性，无论其方向如何。这种对称的设计以电磁场技术为动力，能够保持恒定的蚀刻速率。Altus Chamber的优点是：吞吐量高，拥有成本低，适应性强。它配备了最新的等离子体源和控制器，能够生产具有高均匀性和性能的低功率蚀刻--效率高达400晶圆/小时，多氯联苯蚀刻率降低30%以上。腔室可以配置为同时处理多种类型的晶片，这使得它非常适合多应用生产。此外，该室符合国际标准，室内压力和温度可随时精确监测。该室采用双频射频发生器，又称感应射频。这使得腔室在不影响蚀刻速率或均匀性的情况下实现高等离子体密度。此外，腔室采用智能校准系统，自动优化每个基板的晶圆尺寸参数。控制器支持广泛的过程监视和控制,并为创建和调整特定于应用程序的配方提供了一个用户友好的界面。此外，该室还设有安全系统，以确保其操作安全。该系统由监测物理和化学参数（如压力和温度）的传感器监控。该室还设有故障安全机制，以防止气体泄漏和潜在爆炸等任何异常情况。NOVELLUS Altus Chamber是一款适用于现代芯片生产线的强大蚀刻室。高蚀刻率和低拥有成本使其成为许多芯片铸造厂的理想选择，其完全对称的设计确保了工艺的均匀性，同时能够同时处理多种类型的晶圆。此室具有出色的用户界面,使工程师能够轻松有效地配置和调整配方。安全传感器和协议确保以安全的方式完成所有操作,从而使Altus Chamber成为满足任何半导体制造需求的可靠且最佳的解决方桉。