二手 NOVELLUS C2-CVDD Concept 2 #293648738 待售

NOVELLUS Concept 2 CVDD（化学气相沉积）反应器是一种最先进的多室化学气相沉积设备，设计用于以高速率、高均匀性沉积薄膜。该系统采用独特的腔室设计，实现了快速沉积速率和低温操作范围，使较厚的薄膜能够沉积。Concept 2 CVDD单元由一个负载锁定室和一个晶圆传递室组成，用于将工艺晶圆送入和送出沉积工艺室。锁载室也用于直接晶片装卸，意味着不需要手动装卸。这有助于减少污染并使CVDD机器更易于使用。沉积过程室是由气体预溷合室、沉积室和储气室组成的多室工具。气体预溷合室用于在进入沉积室前溷合前体和惰性载气。通过预溷合前体，这一过程有助于确保沉积过程的均匀性。沉积室是进行薄膜实际沉积的地方。该腔室设计为在低温下工作，通常在500C左右，以便能够沉积较厚的薄膜。储气室用于在所需压力和温度下储存气体。这有助于减少操作过程中使用的气体量。整个CVDD资产由计算机模型控制，用于管理沉积过程和监控结果。NOVELLUS Concept 2 CVDD设备是一种可靠且可重复的工艺，用于广泛的工业和研究应用。该系统能够沉积厚度在10nm至500 nm之间的薄膜。此外,此单元还可以根据应用程序沉积透明、反射和不透明的薄膜。NOVELLUS Concept 2 CVDD机是一种可靠且用途广泛的薄膜沉积工具。