二手 NOVELLUS C2-Sabre #293634852 待售
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NOVELLUS C2-Sabre是一个用于先进半导体加工应用的湿式站。它是一种通用工具，可以用来蚀刻和各向同性清洁广泛的基材，如硅、玻璃、陶瓷和石英。该工具由一个加工室、一个涡轮泵浦排气系统以及各种外部泵和阀门组成。该系统还包括斜角控制器、用于样品处理和分析的电子束源，以及用于控制各腔组件的高分辨率控制系统。C2-Sabre有两种模式：湿蚀刻和各向同性清洁某些基材。它有两个主要特点，与其他湿蚀刻系统区别开来：一个是在蚀刻之前使用水性表面活性剂溶液的预清洁工艺，另一个是积极的清洁工艺，即使用活性有机-化学溷合物快速清除有害材料。预清洁过程有助于实现均匀的蚀刻轮廓。它是通过将水和表面活性剂的溶液引入到基板上，并用紫外线将其激活而实现的。这有助于打破目标材料和基板表面的表面张力，从而使两种材料的蚀刻去除更加容易。NOVELLUS C2-Sabre的侵略性清洗过程使用高度侵略性的氢氧化铵和过氧化氢溷合物，连同某些添加剂，从底物中剥离和剥离表面材料。这是通过利用等离子体辅助化学蚀刻（PACE）实现的，其中化学剂的反应是由低压步进电场引起的。PACE有助于提高化学反应速率，从而加快目标材料的蚀刻速率。C2-Sabre的电子束源允许对各种底物和表面进行分析、表征和修复。光束根据基板的特性进行调整，以提供一系列扫描，这些扫描捕获与表面地形、薄膜形态和任何其他表面特定特性有关的信息。此外，电子束产生的加热可用于蒸发、回流和重新合金背景材料，从而消除误差，改变电路，而无需任何机械干预。NOVELLUS C2-Sabre是一种高度可靠的工具,具有强大的软件和硬件组件。它在半导体器件制造的许多步骤中提供了灵活性和准确性。它提供了出色的产量、快速的吞吐量和较低的运营成本,使其成为高级流程应用程序的理想选择。
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