二手 NOVELLUS CONCEPT 2 Altus 2 #9093689 待售

NOVELLUS CONCEPT 2 Altus 2
ID: 9093689
晶圆大小: 8"
Chamber, Tungsten, 8".
NOVELLUS CONCEPT 2 Altus 2反应堆是一种化学气相沉积(CVD)反应堆设备,用于覆盖半导体器件表面。这种CVD反应器专为20nm及以下的工艺几何形状而设计,使其成为高级内存和逻辑设备功能开发的理想选择。Altus 2反应堆的独特设计确保了所有沉积需要的最佳结果。Altus 2反应堆采用线性机器人运动系统。该运动单元允许快速地精确沉积材料。加速直线运动机与高效气体输送工具耦合。这一资产提供了快速的气体流向反应堆表面,从而实现了快速、准确的沉积。Altus 2反应堆能够同时进行多次沉积。它具有双源功能,可同时实现介电和金属沉积,或同时实现几种不同的材料沉积。这使得沉积任务能够快速周转,生产周转时间更短。Altus 2反应堆先进的工艺控制模型确保在严格的公差范围内不间断沉积。该设备可以储存几种配方,可以很容易地召回快速的过程变化。Altus 2反应堆的内置"清洁和安全"特性确保任何工艺变化都不会污染或损坏反应堆的传感器和其他部件。对Altus 2反应器的独特设计进行了优化,以达到最大性能和沉积均匀性。获得专利的均匀气体输送系统可确保任何基板尺寸或形状均匀。Altus 2反应堆的三区加热机制最大程度地减少了热损伤,并确保了对基板的均匀处理结果。Altus 2反应堆设计具有先进的用户安全特性。Altus 2反应堆的机载监控系统可以检测到任何潜在的安全问题并向用户发出警报,从而能够快速解决。工艺室设计可防止泄漏,确保反应堆安全运行的无氧环境。整体CONCEPT 2 Altus 2反应堆是专门为半导体器件设计的先进CVD反应堆单元。Altus 2反应堆以其独特的线性机器人运动机器、高效的气体输送工具和先进的过程控制资产,是一种可靠、准确的设备,可以满足任何沉积需要。
还没有评论