二手 NOVELLUS CONCEPT 2 Altus #166554 待售

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ID: 166554
晶圆大小: 8"
Chemical vapor deposition system, 8" (1) Altus shrink chamber (PNL) MTR5 Robot Single SSD (1) Aligner 1996 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Altus是一种最先进的反应堆,设计用于半导体制造和MEMS制造的先进材料沉积。反应堆提供了广泛的能力,是市场上最强大、最可靠的反应堆之一。适合于沉积应力水平最低、折射率变化较大的均匀薄膜。阿尔特斯号利用真空处理室和电子束(E-beam)源。在沉积过程之前,使用功率高达60千伏(kV)的高功率电子枪从表面清除不需要的材料。这一过程使层更紧密地粘附在基板上,并增加了合成薄膜的稳定性。它还允许沉积原本很难用常规方法沉积的材料。该系统包括一个SmartCard,它是一个方便参数设置的接口。它是一个高度可配置的平台,允许沉积过程配方根据用户的规范进行编程。此外,CONCEPT 2 Altus还配备了用于全自动过程控制的高级控制器和计算机。这样就可以访问从简单调整到更复杂参数的不同功能。反应堆可以处理各种材料,包括金属、电介质和化合物。沉积过程由朗缪尔-布洛杰特(LB)或原子层沉积(ALD)实现。LB工艺适用于小分子尺寸薄膜,ALD工艺优化用于生产复杂的稳定氧化物。NOVELLUS CONCEPT 2 Altus还具有能源管理系统(EMS),可降低薄膜沉积过程中的能耗。这有助于降低操作和维护成本,并提高生产产量。此外,与替代品相比,转换器和发射器非常耐用,这意味着需要更少的停机时间和更少的更换部件。CONCEPT 2 Altus是寻求高性能、低成本沉积功能的用户的最佳选择。其先进的特性使得它几乎适合任何需要沉积薄膜或替代涂层的应用。此外,高功率电子束源、SmartCard接口和计算机自动化的结合,使其成为材料沉积最可靠的反应堆之一。
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