二手 NOVELLUS CONCEPT 2 Altus #9159135 待售

NOVELLUS CONCEPT 2 Altus是一种单晶片化学气相沉积（CVD）反应器，专门设计用于在半导体基板上沉积先进薄膜。用于高端集成芯片等电子设备的制造。反应堆使用等离子体增强型CVD（PECVD），这一过程在晶圆上形成高度受控且均匀的薄膜。这个过程从一个加热气体进入充满高密度离子场的反应室开始。反应物气体随后被离子注入并减少，在底物表面形成薄膜。该反应堆设计为交钥匙系统，安装方便，过程控制严密。可以快速、精确地调整工艺参数,以确保沉积周期以最佳速度运行,并将生产成本降至最低。CONCEPT 2 Altus能够运行多个进程室，最高温度为800 °C。具有高效、化学均匀性，靶向覆盖面积大，是先进薄膜沉积的理想选择。可以在反应器上进行的过程包括蚀刻、薄膜沉积和半导体底物的氧化。另外，通过使用多个工艺室，反应器能够同时执行各种薄膜沉积作业。反应堆还配备了远程诊断接口，使操作员能够远程、快速地监控和故障排除系统。NOVELLUS CONCEPT 2 Altus是一种高效先进的反应器，非常适合薄膜沉积在SMC和其他半导体基板上。它具有先进的温度和过程控制系统，能够在整个工作表面提供紧密而均匀的薄膜沉积。此外，它的多室设计允许同时薄膜沉积，为薄膜制造提供最大的生产力。利用远程诊断接口和800°C的最高温度,CONCEPT 2 Altus是高级薄膜沉积作业的理想工具。