二手 NOVELLUS CONCEPT 2 Altus #9202875 待售
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NOVELLUS CONCEPT 2 Altus是下一代等离子体反应器，用于半导体制造的高精度蚀刻沉积薄膜。开发该反应堆的目的是优化20海里及以下节点的先进装置，如FinFET的生产。它具有高纵横比腔室的特点，利用电感耦合等离子体（ICP）产生等离子体放电。CONCEPT 2 Altus的高纵横比腔室旨在提高不同材料的精密沉积和蚀刻。有了10：1的长宽比，腔室允许电极之间有更大的分离，这增加了用于产生等离子体放电的电场的稳定性。它还在其整个晶片表面提供均匀的离子轰击。此外,腔室还具有更细的垂直轮廓,允许在不同的过程之间更快地过渡。此外,NOVELLUS CONCEPT 2 Altus由ICP源提供支持,该源针对低接近护套控制进行了优化,以实现更好的蚀刻均匀性。通过控制ICP源，可以产生功率范围从超低到高功率的等离子体，从而可以精确控制不同材料的蚀刻和沉积。CONCEPT 2 Altus还利用了高效的技术，例如周期时间比以前的系统快30%，以及其晶圆交接系统，提高了晶圆加载的效率。它还采用了锁载技术，能够快速补充工艺气体和清洁干燥空气，从而进一步缩短加工时间。此外,该系统还集成了先进的智能诊断和警报,可用于预测性维护。NOVELLUS CONCEPT 2 Altus是一个全面、下一代的等离子体反应堆系统，旨在为制造先进半导体器件提供高效、高精度的蚀刻沉积能力。它利用ICP技术产生具有精确控制的等离子体、用于均匀离子轰击的高长宽比腔室、用于更快循环时间的高效技术以及先进的智能诊断以确保最佳性能。
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